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スタッフ

Name | 教授: 一杉太郎 |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 502 |
Tel (ext) | 03-5734-2636 (2636) |
hitosugi.t.aa -at- m.titech.ac.jp |
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Name | 助教: 清水亮太 |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607 |
Tel (ext) | 03-5734-3935 (3935) |
shimizu.r.af -at- m.titech.ac.jp |
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Name | 特任助教 (CREST): 西尾和記 |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607 |
Tel (ext) | 03-5734-3935 (3935) |
nishio.k.ag -at- m.titech.ac.jp |
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Name | 研究員: 中山亮 |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607 |
Tel (ext) | 03-5734-3935 (3935) |
nakayama.r.ad -at- m.titech.ac.jp |
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Name | 事務補佐員: 露崎紫乃 |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 503 |
Tel (ext) | 03-5734-2636 (2636) |
tsuyusaki.s.aa -at- m.titech.ac.jp |
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Name | アウトリーチ活動(新学術領域研究ハイドロジェノミクス): 伊東靖子 |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 503 |
Tel (ext) | 03-5734-2636 (2636) |
ito.y.bv -at- m.titech.ac.jp |
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学生

Name | 短期滞在学生 (D4): ロスウォーレン |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607 |
Tel (ext) | 03-5734-3935 (3935) |
From | オックスフォード大学 |
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Name | D2:ダイシン |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607 |
Tel (ext) | 03-5734-3935 (3935) |
dai.x.ab -at- m.titech.ac.jp | |
現在の研究 | Fabrication of EuF2 and EuO epitaxial thin films using anion-conducting substrates |
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Name | D1 (TAC-MI登録学生): 小林成 |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607 |
Tel (ext) | 03-5734-3935 (3935) |
kobayashi.s.az -at- m.titech.ac.jp | |
修論研究 | 全固体Li電池における固体電解質/電極界面抵抗の制御 |
卒論研究 | 全固体リチウム電池における正極/固体電解質界面のLi分布 |
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Name | D1: 笹原悠輝 |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607 |
Tel (ext) | 03-5734-3935 (3935) |
sasahara.y.aa -at- m.titech.ac.jp | |
修論研究 | 遷移金属水素化物エピタキシャル薄膜の作製と電子物性評価 |
卒論研究 | 遷移金属水素化物薄膜のエピタキシャル成長とその物性評価 |
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Name | D1: デンジュン |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607 |
Tel (ext) | 03-5734-3935 (3935) |
deng.j.ab -at- m.titech.ac.jp | |
修論研究 | Controllable Synthesis of Transitional Metal Nanomaterials and Its Applications in Rechargeable Batteries |
卒論研究 | Effect of Heat Treatment Process on Microstructure and Mechanical Properties of Mg-Gd-Zn Alloy |
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Name | D1: ワンカイドン |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607 |
Tel (ext) | 03-5734-3935 (3935) |
wang.k.ae -at- m.titech.ac.jp | |
修論研究 | Fast fabrication of NdBa2Cu3O7-x epitaxial superconducting films by laser CVD |
卒論研究 | The fabrication of NdBa2Cu3O7-x epitaxial films by MOCVD |
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Name | M2: 小林安貴 |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607 |
Tel (ext) | 03-5734-3935 (3935) |
kobayashi.y.bs -at- m.titech.ac.jp | |
現在の研究 | 界面修飾層による全固体薄膜Li電池の電気化学ポテンシャル制御 |
卒論研究 | 負極材料LiTi2O4エピタキシャル薄膜を利用した全固体Li薄膜電池の作製と評価 |
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Name | M2 (TAC-MI登録学生): 小松遊矢 |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607 |
Tel (ext) | 03-5734-3935 (3935) |
komatsu.y.aj -at- m.titech.ac.jp | |
現在の研究 | 希土類酸水素化物エピタキシャル薄膜の作製と光誘起物性評価 |
卒論研究 | 反応性マグネトロンスパッタ法を用いたYH2エピタキシャル薄膜成長と物性評価 |
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Name | M2: 清宮健 |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607 |
Tel (ext) | 03-5734-3935 (3935) |
seimiya.k.aa -at- m.titech.ac.jp | |
現在の研究 | MoxReyOz薄膜の合成と電子輸送特性評価 |
卒論研究 | 多電子酸化還元挙動を示すビスピリジニウム誘導体の有機レドックスフロー電池における負極活物質への応用 |
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Name | M2 (TAC-MI登録学生): チョンソンミン |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607 |
Tel (ext) | 03-5734-3935 (3935) |
chon.s.aa -at- m.titech.ac.jp | |
現在の研究 | Epitaxial growth of Ca2NH thin films |
卒論研究 | 多ホウ素コーティングプロセスにおけるホウ素粉末のリサイクル |
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Name | M2 (TAC-MI登録学生): 渡邊佑紀 |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607 |
Tel (ext) | 03-5734-3935 (3935) |
watanabe.y.bp -at- m.titech.ac.jp | |
現在の研究 | 薄膜型全固体Li電池のメモリデバイス応用: 多機能化と動作機構の解明 |
卒論研究 | Li/Li3PO4/Ni積層構造を用いた電圧記録型多値メモリの創製 |
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Name | M1: 今関大輔 |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607 |
Tel (ext) | 03-5734-3935 (3935) |
imazeki.d.aa -at- m.titech.ac.jp | |
現在の研究 | 全固体Li電池の電解質/電極界面に関する研究 |
卒論研究 | アナターゼ型TiO2エピタキシャル薄膜を電極とした全固体Li電池に関する研究 |
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Name | B4: 枝村紅依 |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607 |
Tel (ext) | 03-5734-3935 (3935) |
edamura.k.ab -at- m.titech.ac.jp | |
現在の研究 | LiNi0.8Co0.15Al0.05O2エピタキシャル薄膜を用いた全固体Li電池の作製と評価 |
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Name | B4: 河口祐飛 |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607 |
Tel (ext) | 03-5734-3935 (3935) |
kawaguchi.y.ag -at- m.titech.ac.jp | |
現在の研究 | 錯体水素化物の薄膜合成に向けた赤外レーザー堆積装置の開発 |
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Name | B4: 武田祐希 |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607 |
Tel (ext) | 03-5734-3935 (3935) |
takeda.y.ah -at- m.titech.ac.jp | |
現在の研究 | Li1.5Al0.5Ge1.5(PO4)3 の薄膜作製とLiイオン伝導度評価 |
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Name | B4: 増山知輝 |
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Office | 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607 |
Tel (ext) | 03-5734-3935 (3935) |
masuyama.t.ab -at- m.titech.ac.jp | |
現在の研究 | ベイズ最適化を活用した薄膜合成条件の最適化 |
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過去に在籍したメンバーは、こちらを御覧ください。
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