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メンバー

Seoungmin Chon
Name M2 (TAC-MI登録学生):チョンソンミン
Office 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607号室
Tel (ext) 03-5734-3935 (3935)
Email chon.s.aa -at- m.titech.ac.jp
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研究分野

  • 金属水窒化物
  • 反応性マグネトロンスパッタ
  • 薄膜合成

学歴

  • 2012.9: アルバータ大学 工学部 化学物質工学科 入学
  • 2017.6: アルバータ大学 工学部 化学物質工学科 卒業
  • 2018.4: 東京工業大学 物質理工学院 応用化学系 研究生 入学
  • 2018.9: 東京工業大学 物質理工学院 応用化学系 研究生 退学
  • 2018.9: 東京工業大学 物質理工学院 応用化学系 修士課程 入学

職歴

  • 2016.1 - 2016.8: シンクルード カナダ インターン冶金エンジニア

最近の学会発表

  • "Epitaxial growth of Ca2NH thin films using reactive magnetron sputtering"

    Seoungmin Chon, Shigeru Kobayashi, Ryota Shimizu, Kazunori Nishio, and Taro Hitosugi
    Materials research meeting 2019 December 10-14, 2019, Yokohama, JPN.

  • "Epitaxial growth of Ca2NH thin films using reactive magnetron sputtering"

    Seoungmin Chon, Shigeru Kobayashi, Kazunori Nishio, Ryota Shimizu, Taro Hitosugi
    The 5th Japan-Korea Joint Symposium on Hydrogen in Materials November 7-8, 2019, Tokyo, JPN.

  • "Epitaxial growth of CaNxHy thin films using reactive magnetron sputtering"

    Seoungmin Chon, Shigeru Kobayashi, Kazunori Nishio, Ryota Shimizu, Taro Hitosugi
    第66回応用物理学会春季学術講演会 2019年3月9-12日 東京工業大学(大岡山キャンパス)

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