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メンバー

ダイシン
Name D2:ダイシン
Office 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607号室
Tel (ext) 03-5734-3935 (3935)
Email dai.x.ab -at- m.titech.ac.jp
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研究分野

  • フッ化物薄膜
  • 薄膜合成
  • 固体電解質

学歴

  • 2012.9: 武漢理工大学 材料科学工学部 複合材料工学科 学部課程 入学
  • 2016.6: 武漢理工大学 材料科学工学部 複合材料工学科 学部課程 卒業
  • 2016.9: 武漢理工大学 材料科学工学研究科 材料工学専攻 修士課程 入学
  • 2018.6: 武漢理工大学 材料科学工学研究科 材料工学専攻 修士課程 修了
  • 2018.9: 東京工業大学 物質理工学院 応用化学系 博士後期課程 入学

最近の学会発表

  • "Growth processes of YF3 epitaxial thin films using fluorine-anion conducting substrates"

    Xin DAI, Yuya Komatsu, Ryota Shimizu, Taro Hitosugi
    第80回応用物理学会秋季学術講演会 2019年9月18-21日 北海道大学(札幌キャンパス)

  • "Fabrication of EuF2 and EuO epitaxial thin films using anion-conducting substrates"

    Xin DAI, Yuya Komatsu, Ryota Shimizu, Taro Hitosugi
    第66回応用物理学会春季学術講演会 2019年3月9-12日 東京工業大学(大岡山キャンパス)

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