ホーム > メンバー > 特任助教(CREST):西尾和記

メンバー

西尾和記
Name 特任助教(CREST): 西尾和記
Office 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607号室
Tel (ext) 03-5734-3935 (3935)
Fax 03-5734-3935 (3935)
Email nishio.k.ag -at- m.titech.ac.jp
.

研究分野

  • パルスレーザー堆積法
  • 酸化物薄膜合成
  • リチウムイオン電池
  • エネルギーデバイス

学歴

  • 2006: 東京理科大学 理工学部 物理科 卒業
  • 2008: 東京大学大学院 新領域創成科学研究科 物質系専攻 修士課程修了
  • 2011: 東京大学大学院 新領域創成科学研究科 物質系専攻 博士課程修了 博士(科学)

職歴

  • 2011 - 2014: 物質・材料研究機構ナノ材料科学環境拠点 ポスドク研究員
  • 2014 - 2016: スタンフォード大学 ポスドク研究員
  • 2016 - 2017: 東北大学多元物質科学研究所 本間研究室 助教
  • 2017 - 現在:  東京工業大学物質理工学院 一杉研究室 特任助教

受賞歴

  • 2012: NIMS-TOYOTA Materials Center Award

最近の論文

  • L.C. Seitz, C. F. Dickens, K. Nishio, Y. Hikita, J. Montoya, A. Doyle, C. Kirk, A. Vojvodic, H. Y. Hwang, J. K. Norskov, T. F. Jaramillo,
    "A Highly Active and Stable IrOx/SrIrO3 catalyst for the oxygen evolution reaction"
    Science 353, 1011 (2016).
  • Y. Hikita, K. Nishio, L. C. Seitz, P. Chakthranont, T. Tachikawa, T. F. Jaramillo, H. Y. Hwang,
    "Band Edge Engineering of Oxide Photoanodes for Photoelectrochemical Water Splitting: Integration of Subsurface Dipoles with Atomic-Scale Control"
    Adv. Energy Mater 6, 1502154 (2016).
  • K. Nishio, H. Y. Hwang, and Y. Hikita,
    "Thermodynamic guiding principles in selective synthesis of strontium iridate Ruddlesden-Popper epitaxial films"
    APL Materials 4, 036102 (2016).
  • K. Nishio, T. Ohnishi, K. Mitsuishi, N. Ohta, K. Watanabe, K. Takada,
    "Orientation alignment of epitaxial LiCoO2 thin films on vicinal SrTiO3 (100) substrates"
    J. Power Sources 325, 306 (2016).
.
.