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メンバー

杉山一生
Name 日本学術振興会特別研究員:杉山一生
Office 東京工業大学 大岡山キャンパス 東2号館 607号室
Tel (ext) 03-5734-3935 (3935)
Fax 03-5734-3935 (3935)
Email sugiyama.i.ad -at- m.titech.ac.jp
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Research Gate Google Scholor ORCID

研究分野

  • 点欠陥・イオンのダイナミクス及び物性
  • 格子欠陥物性
  • 酸化物薄膜
  • 液相焼結材料の粒成長

学歴

  • 2010: 東京大学工学部 マテリアル工学科 卒業
  • 2012: 東京大学大学院 新領域創成科学研究科 物質系専攻 修士課程修了
  • 2015: 東京大学大学院 工学系研究科 マテリアル工学専攻 博士課程修了(工学博士)

職歴

  • 2012 - 2015: 日本学術振興会特別研究員(DC1)
  • 2015 - 現在:  日本学術振興会特別研究員(PD)

主な受賞歴

  • 2015: 東京大学工学系研究科長賞
  • 2014: 第28回独創性を拓く先端技術大賞 ニッポン放送賞
  • 2010: 第18回日本金属学会・日本鉄鋼協会奨学賞
       
  • その他の受賞等詳細なプロフィールは、個人のHPを御覧下さい。

最近の論文

  • #: contributed equally, *: corersponding author

  • F. Bin#, I. Sugiyama#, H. Hojo, H. Ohta, N. Shibata and Y. Ikuhara*,
    "Atomic structures and oxygen dynamics of CeO2 grain boundaries"
    Sci. Rep. 52, 20288 (2016).
  • I. Sugiyama*, Y. Mizumukai, T. Taniuchi, K. Okada, F. Shirase, T. Tanase, Y. Ikuhara, T. Yamamoto,
    "Carbon content dependence of grain growth mode in VC-doped WC-Co hardmetals"
    Int. J. Refract. Metals Hard Mater. 52, 245-251 (2015).
  • I. Sugiyama, Y. Kim, S. Jesse, E. Strelkov, A. Kumar, A. Tselev, E. K. Rahani, V. B. Shenoy, T. Yamamoto, N. Shibata*, Y. Ikuhara, S. V. Kalinin*,
    "Spatially-resolved mapping of history-dependent coupled electrochemical and electronical behaviors of electroresistive NiO"
    Sci. Rep. 4, 6725 (2014).
  • I. Sugiyama*, Y. Mizumukai, T. Taniuchi, K. Okada, F. Shirase, T. Tanase, Y. Ikuhara, T. Yamamoto,
    "3-D morphology of (W,V)Cx in VC doped WC-Co hard metals"
    Scripta Mater. 69, 473 (2013).
  • I. Sugiyama, N. Shibata, Z. Wang, S. Kobayashi, T. Yamamoto, Y. IKuhara*,
    "Ferromagnetic dislocationsin antiferromagnetic NiO"
    Nature Nanotechnol. 8, 266-270 (2013).
  •    
  • 全業績リストは個人のHPを御覧下さい。
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